HCCL-湖南水廠消毒設(shè)備次氯酸鈉發(fā)生器生產(chǎn)商
湖南水廠消毒設(shè)備次氯酸鈉發(fā)生器生產(chǎn)商
自來(lái)水廠使用的次氯酸鈉溶液必須具備食品衛(wèi)生許可證，且符合 GB 19106—2003 的要求，有效氯≥10% ，游離堿和其他重金屬含量低于標(biāo)值。由于次氯酸鈉溶液化學(xué)性質(zhì)不穩(wěn)定，在運(yùn)輸、儲(chǔ)存和使用過(guò)程中會(huì)發(fā)生分解。在濃度、溫度和壓力不同的條件下，次氯酸鈉發(fā)生分解的速度不同。濃度越高、溫度越高、壓力越低，次氯酸鈉分解越快，反之越慢。次氯酸鈉的化學(xué)性質(zhì)不穩(wěn)定，光照受熱后會(huì)發(fā)生分解; 同時(shí)，其水解產(chǎn)生的次氯酸也會(huì)發(fā)生分解 ; 另外，分解產(chǎn)生的鹽酸還會(huì)和次氯酸發(fā)生反應(yīng)，生成氯。
湖南水廠消毒設(shè)備次氯酸鈉發(fā)生器生產(chǎn)商
重金屬離子對(duì)次氯酸鈉的作用：
重金屬離子的存在會(huì)促使次氯酸鈉溶液分解，特別是以隔膜堿或離子膜堿為原料制備的次氯酸溶液中容易含有重金屬鐵、鎳等〔19〕。為除去金屬雜質(zhì)，可采取如下辦法: 水的軟化處理， 如在原水中加入堿金屬鹽等復(fù)合化學(xué)處理劑， 然后再經(jīng)軟水處理器，去除原水中重金屬離子; 添加水溶液鐵鹽( 氯化鐵、硫酸鐵、以及氫氧化鐵等重金屬雜質(zhì)) 捕捉共沉淀; 加入硅酸鹽( 硅酸鈉、硅酸鉀等) 及水溶性鎂鹽( 氯化鎂、、鎂) 使金屬共沉淀 10 min 即可過(guò)濾除去沉淀物。在生產(chǎn)、儲(chǔ)存、運(yùn)輸過(guò)程中應(yīng)盡量避免耐腐蝕性能差的金屬材料和含鎳量高的材料，可用不透明的耐腐蝕塑料做容器或耐腐蝕塑料容器內(nèi)襯等。
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設(shè)備相關(guān)東西簡(jiǎn)述：
1. 次氯酸鈉發(fā)生器為組合形式，通過(guò)稀鹽水計(jì)量投加入電解槽，通過(guò)硅整流器接通陰陽(yáng)直流電源電解生成次氯酸鈉。
2. 1公斤次氯酸鈉鹽耗：4.0-4.2;4.3-4.5KW。
3. 在鹽水溶液中含有Na+ 、H-等幾種離子，按照電解理論，當(dāng)插入電時(shí)，在一定的電壓下，電解質(zhì)溶液由于離子的移動(dòng)和電反應(yīng)，發(fā)生導(dǎo)電作用，這時(shí)CL-、OH-等負(fù)離子向陽(yáng)移動(dòng)，而Na+、H+等正離子向陰移動(dòng)，并在相應(yīng)的電上發(fā)生放電，從而進(jìn)行氧化還原反應(yīng)，生產(chǎn)相應(yīng)的物質(zhì)。
4. 鹽水溶液電解過(guò)程可用下列反應(yīng)方程式表示：NaCl=Na++Cl-
5. 陽(yáng)電解作用：H2O=H+OH- 2Cl-2e—→Cl2↑ 陰電解作用：2H-+2e—→H2↑
6. 在無(wú)隔膜電解裝置中，電解質(zhì)和電解生成物氫氣溶液里向外逸出之外，其他均在一個(gè)電解槽內(nèi)，由于氫氣在外逸過(guò)程中對(duì)溶液起到一定的攪拌作用，使兩間的電解生成物發(fā)生一系列的化學(xué)反應(yīng)，反應(yīng)方程式如下：
2NaCl+2H2O→2NaOH+H2↑+Cl2 2NaOH+Cl2→NaClO+NaCl+H2O
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